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            化學(xué)氣相沉積室中的清潔過(guò)程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應(yīng)用|埃登威自動(dòng)化系統(tǒng)設(shè)備（上海）有限公司
    
        
    
            
    
		
    
    
        
    
	化學(xué)氣相沉積室中的清潔過(guò)程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應(yīng)用

    

    

    

    
	化學(xué)氣相沉積(CVD)是生產(chǎn)高質(zhì)量固體薄膜和涂層的有力技術(shù)。雖然在現(xiàn)代工業(yè)中已經(jīng)廣泛使用，但由于適應(yīng)了新材料，所以還在發(fā)展。如今，通過(guò)**制造2D材料的無(wú)機(jī)膜和可以共形沉積在各種基底上的高純度聚合物膜，CVD合成技術(shù)被推向了一個(gè)新的高度。

    

    
原理:將兩種或兩種以上的氣態(tài)原料引入一個(gè)反應(yīng)室，然后它們相互反應(yīng)形成一種新的材料，沉積在基底表面。反應(yīng)物主要是金屬氯化物，它首先被加熱到一定溫度以達(dá)到足夠高的蒸汽壓，然后與載氣(通常是Ar或H2)一起被送入反應(yīng)器。如果某種金屬不能形成高壓氯化物蒸汽，就會(huì)被有機(jī)金屬化合物取代。在反應(yīng)器中，涂層材料或者用金屬絲懸掛，放置在平面上，或者沉入粉末流化床中，或者本身就是流化床中的顆粒。當(dāng)發(fā)生在化學(xué)反應(yīng)器中時(shí)，產(chǎn)物會(huì)沉積在涂層材料表面，廢氣多為HCl或HF，導(dǎo)致堿吸收或冷阱。除了需要獲得的固體沉積物，化學(xué)反應(yīng)的產(chǎn)物必須是氣體沉積物，它們的飽和蒸汽壓要足夠低，以使它們?cè)谡麄€(gè)反應(yīng)和沉積過(guò)程中保持在加熱的基底上。反應(yīng)過(guò)程:1。反應(yīng)氣體擴(kuò)散到襯底表面；2.反應(yīng)氣體被吸附在襯底表面；3.表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)、表面運(yùn)動(dòng)、成核和薄膜生長(zhǎng)；4.產(chǎn)品從表面解吸；5.產(chǎn)品在表面擴(kuò)散。選擇的化學(xué)反應(yīng)通常應(yīng)滿(mǎn)足以下要求:①反應(yīng)物質(zhì)在室溫或不太高的溫度下應(yīng)為氣態(tài)，或具有高蒸汽壓和高純度；②通過(guò)沉積反應(yīng)可以形成所需的材料沉積層；③反應(yīng)在沉積溫度下容易控制，反應(yīng)物必須有足夠高的蒸氣壓。
    
化學(xué)氣相沉積室中的清潔過(guò)程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應(yīng)用
    

    
	因?yàn)镃VD中使用的原料大多是特殊氣體，比較危險(xiǎn)，所以需要對(duì)這些氣體使用特殊的氣體系統(tǒng)。沉積的氮化硅膜(Si3N4)就是一個(gè)很好的例子。它是由硅烷和氮?dú)夥磻?yīng)形成的，而硅烷(SiH4)是一種劇毒的特殊氣體，在室溫下可以點(diǎn)燃，在空氣或鹵素氣體中會(huì)發(fā)生爆炸燃燒。因此，需要使用專(zhuān)用的氣柜來(lái)保證硅烷的**使用。

    

    
	化學(xué)氣相沉積室中的清潔過(guò)程中用高純氮吹掃后往往需要監(jiān)控微量氧和微量水含量，這時(shí)候可以使用ADEV的在線微量氧分析儀和微量水分析儀，

    

    
	ADVE在線微量氧分析儀G1501技術(shù)特點(diǎn)：

    

    
	■快速響應(yīng)和恢復(fù)時(shí)間
    
■**、直接且易于使用的用戶(hù)界面
    
■前面板傳感器入口
    
■校準(zhǔn)氣體的能力
    
■緊湊簡(jiǎn)單的外形化學(xué)氣相沉積室中的清潔過(guò)程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應(yīng)用
    
■改進(jìn)的溫度指數(shù)
    
■不受流量變化的影響。
    
■不需要零點(diǎn)氣體和輔助氣體。
    
■不受碳?xì)浠衔锖推渌趸瘹怏w的影響。
    
■ RFI保護(hù)
    
■免維護(hù)。
    
■節(jié)約成本
    
■液晶數(shù)字顯示器
    
■ RS232雙向通信
    
ADVE在線微量氧分析儀G1501技術(shù)參數(shù)
    
測(cè)試范圍范圍：0-10ppm、0-100ppm和0-1000ppm，0-1%，0-25%的范圍。
    
空氣校準(zhǔn)范圍:0-25%
    
可選范圍:0-1ppm
    
*小分辨率范圍的0.5%或50ppb化學(xué)氣相沉積室中的清潔過(guò)程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應(yīng)用
    
恒溫下重復(fù)精度為滿(mǎn)量程的1%(對(duì)于小于10ppm的范圍，重復(fù)精度為滿(mǎn)量程的3%)
    
工作溫度32華氏度-113華氏度(0 -45攝氏度)
    
日溫度指數(shù)為32 ℉ -113 ℉ (0 -45℃)，小于測(cè)量范圍的3°。
    
90%響應(yīng)時(shí)間100ppm-25%小于10秒
    
警報(bào)(標(biāo)準(zhǔn))2個(gè)觸點(diǎn)，氧氣濃度完全可調(diào)
    
c形繼電器觸點(diǎn)3A，100伏
    
故障固態(tài)繼電器觸點(diǎn)3A，100伏
    
雙路輸出信號(hào)0-1VDC和隔離4-20mA
    
100/117/230伏交流電10% 50/60赫茲電源

    

    
	
    

    

    
	ADEV在線微量水分析儀技術(shù)參數(shù)：

    

    
	0-10/100/1000ppm/1%

    

    
	4-20mA模擬輸出

    

    
	220V或24V可選

    

    
	氧化鋁工作原理

    

    
	
    

    

    
	更多化學(xué)氣相沉積室中的清潔過(guò)程中用高純氮吹掃后ADEV微量氧分析儀水分析儀應(yīng)用信息請(qǐng)直接致電埃登威上海公司13482246053
    

    
    
    

	
    

        
    
    
    
    

    



    
    
    
        
        
        
        
        
        
    
        
    
    
    

    



    
        
        
    
    
    		 	
    
		 		
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