影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用|埃登威自動化系統(tǒng)設(shè)備（上海）有限公司

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影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用

一、影響氧分析儀測定的幾個因素

氧分析儀是工業(yè)在線過程分析的重要儀表，其準(zhǔn)確性受到多種因素的影響。以下為主要影響因素：

泄漏：氧分析儀的嚴(yán)密性是其準(zhǔn)確測量的前提。任何微小的泄漏都可能導(dǎo)致環(huán)境空氣中的氧氣滲入，導(dǎo)致測量結(jié)果偏高。初次啟用前，儀器的嚴(yán)密性檢查至關(guān)重要，而在使用過程中，也要注意各種連接點、焊點、閥門等的密封情況。
污染：在氧分析儀的使用過程中，污染是一個需要關(guān)注的問題。重新使用時，必須確保連接氧分析儀的取樣管路沒有漏入空氣，如果漏入空氣，需要將漏入的空氣吹除干凈，以保護(hù)傳感器的壽命。同時，管道系統(tǒng)的凈化也非常關(guān)鍵，采用高壓放氣與小流量吹除交替進(jìn)行的方式可以迅速凈化氧分析儀管道。影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用
管道材質(zhì)的選擇：管道材質(zhì)及表面粗糙度也可能影響樣氣中氧含量的變化。例如，塑料管、橡膠管等不適合作為連接管路。一般來說，銅管或不銹鋼管是更好的選擇，而對于超微量分析，必須用拋光過的不銹鋼管。
氣路系統(tǒng)的簡化及潔凈：微量分析要求盡可能減少氣路上的各種管件、閥門、表頭等中的死角對樣氣造成的污染。因此，氣路系統(tǒng)應(yīng)盡可能簡化，并選擇死角小的連接件。此外，應(yīng)避免使用水封、油封等設(shè)備，防止溶解氧的逸出。

二、單晶硅氬氣測量應(yīng)用影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用

單晶硅生產(chǎn)中，氬氣作為一種保護(hù)氣體被廣泛使用，其純度要求極高。在單晶硅的生產(chǎn)過程中，氬氣的純度要求小于1.5ppm。為確保這一純度要求，ADEV電化學(xué)氧分析儀被應(yīng)用于測量中。

通過ADEV電化學(xué)氧分析儀的**測量，生產(chǎn)過程中的氬氣純度可以得到有效的監(jiān)控，確保單晶硅的生產(chǎn)質(zhì)量。此外，由于其高靈敏度和響應(yīng)速度，ADEV氧分析儀能夠?qū)崟r反映氬氣純度的變化，為生產(chǎn)工藝的調(diào)整提供及時、準(zhǔn)確的依據(jù)。影響ADEV氧分析儀因素及單晶硅氬氣測量應(yīng)用

總結(jié)：

要確保氧分析儀的準(zhǔn)確測量，必須注意泄漏、污染、管道材質(zhì)選擇以及氣路系統(tǒng)的簡化與潔凈等因素。而在單晶硅的生產(chǎn)中，ADEV電化學(xué)氧分析儀的應(yīng)用為確保氬氣的高純度提供了有力支持。

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