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            產(chǎn)品資料
    
        
    
            
    
                

    
    
    
    
        
    
            
    
                日本thermocera臺式石墨烯
            
    
        
    
        
    
        
    
        
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        產(chǎn)品名稱: 
            日本thermocera臺式石墨烯
            
        
    
            產(chǎn)品型號:
            CNT合成器
    
        
    
            產(chǎn)品展商:
            其它品牌
    
        
        
        
        
    
            產(chǎn)品文檔:
            無相關文檔
        
    
        
        
    
        
    
            
    
                簡單介紹
            
    
            
    
                
    日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器
    ?型號NanoCVD-8G（用于石墨烯合成）
    ?型號NanoCVD-8N（用于碳納米管）
    無需使用大型制造設備，每批只需30分鐘即可輕松實現(xiàn)石墨烯/ CNT合成。
    CVD方法（化學氣相沉積）
    CVD法是已經(jīng)為多種目的而建立的穩(wěn)定技術，并且當考慮將來石墨烯和CNT的大規(guī)模合成時是現(xiàn)實的方法。
    
            
    
            
    
                
                    日本thermocera臺式石墨烯  的詳細介紹
            
    
            
    
                 

    
	日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

    

    
	
    

    

    
	 

    

    
	
		
    
			
				
    
					特性
				
    
				
      
					
    • 
						日本thermocera臺式石墨烯無需使用大型制造設備即可輕松進行石墨烯/ CNT（SWNT）成膜實驗。
					
      • 
					
    • 
						每批僅30分鐘！
					
      • 
					
    • 
						冷壁型高效，高精度的過程控制
					
      • 
					
    • 
						快速升溫：RT→1100℃/約3分鐘
					
      • 
					
    • 
						具有高精度溫度流量控制和出色重現(xiàn)性的高性能機器
					
      • 
					
    • 
						操作簡便！5英寸觸摸屏可進行操作和配方管理
					
      • 
					
    • 
						多可以創(chuàng)建和保存30個配方，30個合成程序步驟
					
      • 
					
    • 
						軟件為標準設備，輸出為CSV文件在PC上記錄數(shù)據(jù)
					
      • 
					
    • 
						USB電纜連接，在PC端創(chuàng)建配方→可以上傳到設備
					
      • 
				
    
			    		
			
				 
			
		
    
		
    
			
				 
			
			
				 
			
			
				 
			
		
    
	    

    

    
	
		
    
			
				 
			
			
				 
			
			
				 
			
		
    
		
    
			
				 
			
			
				
    
					日本thermocera臺式石墨烯外型尺寸
				
    
				
    
					
    
				
    
			    		
			
				 
			
		
    
		
    
			
				 
			
			
				 
			
			
				 
			
		
    
	    

    

    
	
		
    
			
				 
			
			
				 
			
			
				 
			
		
    
		
    
			
				 
			
			
				
    
					主要規(guī)格
				
    
				
    
					
						
    
							
								A.主要規(guī)格
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								1.反應室
							
							
								 不銹鋼SUS304泄漏檢查
							
						
    
						
    
							
								2.加熱階段
							
							
								 陶瓷制成
							
						
    
						
    
							
								3.相應的樣本量
							
							
								 20 x 40毫米
							
						
    
						
    
							
								4.加熱加熱器
							
							
								 高純石墨加熱器Max1050℃
							
						
    
						
    
							
								5.溫度控制
							
							
								 K型熱電偶標準附件（安裝在加熱臺下）
							
						
    
						
    
							
								 
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								B.日本thermocera臺式石墨烯過程控制設備規(guī)格
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								1.氣體控制
							
							
								 質量流量控制器x 3（Ar，H2，CH4）
							
						
    
						
    
							
								2.壓力控制
							
							
								 20托FS
							
						
    
						
    
							
								3.真空排氣
							
							
								 包括愛德華茲旋轉泵RV3（3立方米/小時）
							
						
    
						
    
							
								4.操作面板
							
							
								 正面安裝5英寸觸摸屏（歐姆龍制造）
							
						
    
						
    
							
								5.風冷
							
							
								 用冷卻風扇冷卻外殼內(nèi)部
							
						
    
						
    
							
								6.控制系統(tǒng)
							
							
								 PLC自動過程控制
							
						
    
						
    
							
								 
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								C.軟件（標準附件）
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								1. nanoCVD軟件
							
							
								 標配（已安裝石墨烯的標準程序）
							
						
    
						
    
							
								2.界面
							
							
								 USB 2.0連接
							
						
    
						
    
							
								3.設置數(shù)
							
							
								 多30個配方，30個程序創(chuàng)建和保存步驟
							
						
    
						
    
							
								 
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								D.氣體導入連接規(guī)格
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								1.工藝氣體
							
							
								 1/4英寸世偉洛克卡套管接口，用于Ar，H2，CH4 x 3
							
						
    
						
    
							
								2.載氣
							
							
								 Φ6mm推鎖式管接頭，用于N2或Ar x 1
							
						
    
						
    
							
								 
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								E.**裝置
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								1.過熱
							
							
								 由加熱臺安裝熱電偶控制
							
						
    
						
    
							
								2.機殼內(nèi)部過熱
							
							
								 從內(nèi)部溫度開關
							
						
    
						
    
							
								3.氣壓異常
							
							
								 來自質量流量控制器
							
						
    
						
    
							
								4.真空度降低
							
							
								 來自真空傳感器
							
						
    
						
    
							
								 
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								F.日本thermocera臺式石墨烯實用程序
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								電源
							
							
								 AC200V單相50 / 60Hz 13A
							
						
    
						
    
							
								1.工藝氣壓
							
							
								 30psi 200sccm以下
							
						
    
						
    
							
								2.載氣壓力
							
							
								 60-80磅/平方英寸
							
						
    
						
    
							
								 
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								G.尺寸/重量
							
							
								 
							
						
    
						
    
							
								1.尺寸
							
							
								 405mm（寬）x 415mm（深）x 280mm（高）
							
						
    
						
    
							
								2.重量
							
							
								 約27公斤
							
						
    
					    
				
    
			    		
			
				 
			
		
    
		
    
			
				 
			
			
				 
			
			
				 
			
		
    
	    

    

    
	nanoCVD-8G（石墨烯）

    

    
	納米CVD-8N（CNT）

    

    
	
    
帶旋轉泵的nanoCVD-8G

    

    
	通過CVD化學氣相沉積法在短時間內(nèi)在金屬基底催化劑（Cu，Ni箔等）上合成單層石墨烯膜。nanoCVD-8G的基本操作方案是在石墨平臺上以醉高1100°C的高溫烘烤，并在減壓下供應原料氣體（甲烷），氮氣和氫氣。
    

    
◇◆標準設備配置◆◇

    

      
	
    • 
		●用于石墨烯生成，真空過程控制
	
      • 
	
    • 
		●標配旋轉泵（選件：TMP，擴散泵或干泵）
	
      • 
	
    • 
		● 3個供氣系統(tǒng)（標準）
	
      • 
	
    • 
		●樣品臺大1100℃
	
      • 
	
    • 
		● K型熱電偶
	
      • 

    

    
	
    
*日本thermocera臺式石墨烯以下選項也可滿足其他要求的實驗目的（單獨討論）。

    

      
	
    • 
		●增加氣體導入口（改變和增加氣體種類）
	
      • 
	
    • 
		●增加干泵系統(tǒng)
	
      • 
	
    • 
		●增加額外的腔室/加熱臺并改變臺結構
	
      • 

    

    
	 

    

    
	
    
使用nanoCVD-8G樣品加熱臺] [nanoCVD-8G后面板]生產(chǎn)的石墨烯的拉曼光譜
    

    

    

    

    
	日本thermocera臺式石墨烯/ CNT合成器

    
    









    
    
    
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            聯(lián)系人
            
    
                
            
    
        
    
        
    
            聯(lián)系電話
            
    
                
            
    
        
    
        
        
    
            內(nèi)容
            
    
                
            
    
        
    
        
        
    
            驗證碼
            
    
                
            
    
            
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            注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發(fā)送信息!
    2.如有必要,請您留下您的詳細聯(lián)系方式!
        
    
    
    

    


    
            
    
        
    
    
    

    

            
    
            
        
    
    
    
    
    
        




    
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