日本AMAYA株式會社天谷制作旋轉(zhuǎn)式清洗設備
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日本AMAYA株式會社天谷制作旋轉(zhuǎn)式清洗設備
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簡單介紹
日本AMAYA株式會社天谷制作高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設備伍爾夫系列與高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設備伍爾夫系列清潔溶液高速擴散到清潔表面快速消除異物和反應產(chǎn)物無水痕干燥特征隨著LSI變得越來越復雜，光掩模/光罩需要更高的清晰度和準確性。 我們的清洗設備有助于這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量提高，并合作生產(chǎn)更完整的產(chǎn)品。配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗單元，該單元可以通過工件旋轉(zhuǎn)的離心力、臭氧水和添加氨的氫水排放
日本AMAYA株式會社天谷制作旋轉(zhuǎn)式清洗設備 的詳細介紹
日本AMAYA株式會社天谷制作
高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設備伍爾夫系列
與高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設備
伍爾夫系列
清潔溶液高速擴散到清潔表面
快速消除異物和反應產(chǎn)物
無水痕干燥
特征
隨著LSI變得越來越復雜，光掩模/光罩需要更高的清晰度和準確性。 我們的清洗設備有助于這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量提高，并合作生產(chǎn)更完整的產(chǎn)品。
配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗單元，該單元可以通過工件旋轉(zhuǎn)的離心力、臭氧水和添加氨的氫水排放去除有機物、金屬離子和異物，直至檢測極限水平。 通過切換和清潔每個清潔溶液，可以高速去除工件上的不純沉積物，廢液管理也是一種**的環(huán)境響應工具。
采用
替代RCA清洗液的清洗液和清洗方法 SPM→臭氧水 ?實現(xiàn)完整的室溫清洗（無需高溫工藝） ?減少口罩
上化學溶液的殘留量
?更**的廢液處理（ISO14000措施）
SC-1 → 氫水加氨
?MoSi半色調(diào)掩膜的蝕刻預防
性能
| PSM *終清潔（無 SPM） |
|---|
| 類別 | 不。 | 項目 | 規(guī)范 |
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| 空白 | 1 | 無顆粒 | >32納米 |
| 2 | 預置% | ≧95% |
圖像層
（圖案側(cè)） | 3 | QZ 上的剩余軟缺陷 | ≧0.05微米 （產(chǎn)率 ： 98%） |
| 4 | 移位器上剩余的軟缺陷 | ≧0.05微米， ≦10個 （產(chǎn)率 ： 98%） |
| 5 | SRAF（深色）缺失 | 沒有遺漏 |
| 6 | 圖案損壞、靜電放電、劃痕 | 無損壞 |
| 7 | 換檔器變化（相位） | ≦-0.2 度，平均清潔 10 倍 |
| 8 | 換檔器（變速器） | ≦0.025%，平均清潔 10 倍 |
| 9 | 換檔器（CD 平均值） | ≦0.15nm，平均清潔度為10倍 |
| 10 | 換檔器（CD 范圍） | ≦0.5nm，平均清潔度為10倍 |
| 離子殘基 | 11 | 化學殘留物 （SO4） | ≦0.5 ppb |
| 12 | 化學殘留物（NH4） | ≦17.0 ppb |
原理圖規(guī)格
大小
| 清洗裝置本體 | 7300毫米（寬） x 1410毫米（深） x 2300毫米（高） |
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| 電源箱 | 1400毫米（寬） x 500毫米（深） x 2150毫米（高） |
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| 化學溶液盒 | 2500毫米（寬） x 700毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 過濾器框 | 2600毫米（寬） x 700毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 熱滴機組 | 1250毫米（寬） x 550毫米（深） x 1750毫米（高） |
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| 氫水和碳酸水裝置 | 1050毫米（寬） x 1500毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 臭氧水機組 | 570毫米（寬） x 850毫米（深） x 2000毫米（高） |
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| 效用 | ?三相200V、?單相100V、?DIW、?冷卻水、?清潔干燥空氣、?氮氣、?一般排氣、?酸性排氣、?堿性排氣 |
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