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  • 產(chǎn)品資料

    日本AMAYA株式會社天谷制作所柔性常壓CVD設(shè)備D501系列

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    產(chǎn)品名稱: 日本AMAYA株式會社天谷制作所柔性常壓CVD設(shè)備D501系列
    產(chǎn)品型號:
    產(chǎn)品展商: 其它品牌
    產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

    簡單介紹

    日本AMAYA株式會社天谷制作所用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列用于將多個晶圓裝入大托盤的間歇式常壓CVD設(shè)備特征這是一種間歇式常壓CVD系統(tǒng),其中多個晶圓被裝入一個大托盤中,托盤在分散頭下往復(fù)運動以形成薄膜。它可用于變形的基材。它具有緊湊的儀器尺寸和較小的占地面積。性能均勻的薄膜厚度取決于薄膜類型和厚度支持的晶圓尺寸根據(jù)可加


    日本AMAYA株式會社天谷制作所柔性常壓CVD設(shè)備D501系列  的詳細介紹

    日本AMAYA株式會社天谷制作所

    用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列


    產(chǎn)品信息

    用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備

    D501系列

    • 用于將多個晶圓裝入大托盤的間歇式常壓CVD設(shè)備

    圖片關(guān)鍵詞

    特征

    • 這是一種間歇式常壓CVD系統(tǒng),其中多個晶圓被裝入一個大托盤中,托盤在分散頭下往復(fù)運動以形成薄膜。

    • 它可用于變形的基材。

    • 它具有緊湊的儀器尺寸和較小的占地面積。

    性能

    均勻的薄膜厚度取決于薄膜類型和厚度
    支持的晶圓尺寸根據(jù)可加熱區(qū)
    氣體種類SiH4, O 2, PH 3, B 2 H6, N 2TEOS, TEB, TMOP,O3, TMA 可選)
    薄膜沉積溫度350°C~450°C
    生產(chǎn)力-

    主要規(guī)格

    設(shè)備尺寸1200毫米(寬) x 2480毫米(深) x 1940毫米(高)
    加熱機構(gòu)電阻加熱
    裝載卸載手動方法
    分散頭(氣體噴嘴)A63頭


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