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  • 產(chǎn)品資料

    日本AMAYA天谷制作所株式會社12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備

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    產(chǎn)品名稱: 日本AMAYA天谷制作所株式會社12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備
    產(chǎn)品型號:
    產(chǎn)品展商: 其它品牌
    產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

    簡單介紹

    日本AMAYA天谷制作所株式會社12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備AMAX120012 英寸 每小時 51 張的吞吐量采用SiC托盤防止重金屬污染的對策特征這是傳統(tǒng)AMAX系列中直徑*大的12英寸晶圓加工設(shè)備。SiH63、PH4、B3H2和O6混合后,從優(yōu)化的A2型分散頭進行表面反應(yīng),在低溫和低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。使用SiC托盤


    日本AMAYA天谷制作所株式會社12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備  的詳細介紹

    日本AMAYA天谷制作所株式會社

    12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備


    產(chǎn)品信息

    12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備

    AMAX1200

    • 12 英寸 每小時 51 張的吞吐量

    • 采用SiC托盤防止重金屬污染的對策

    圖片關(guān)鍵詞

    特征

    • 這是傳統(tǒng)AMAX系列中直徑*大的12英寸晶圓加工設(shè)備。

    • SiH63、PH4、B3H2O6混合后,從優(yōu)化的A2型分散頭進行表面反應(yīng),在低溫和低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。

    • 使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外,可以獲得穩(wěn)定的工藝性能,而由于熱引起的老化很小。

    • 標(biāo)配自動托盤更換功能,實現(xiàn)工人**,縮短維護時間。 此外,自動抬起頭部底座的機構(gòu)便于清潔。

    性能

    均勻的薄膜厚度≦±3.0%
    支持的晶圓尺寸12寸
    氣體種類SiH4, O 2, PH3, B 2 H6, N 2
    薄膜沉積溫度~450°C
    生產(chǎn)力51張/小時FOUP兼容標(biāo)準(zhǔn)機

    主要規(guī)格

    設(shè)備尺寸2165毫米(寬) x 4788毫米(深) x 2250毫米(高)
    加熱機構(gòu)電阻加熱
    裝載卸載機器人 CtoC 運輸
    分散頭(氣體噴嘴)A63 頭(標(biāo)準(zhǔn) 3 頭)



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