日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社常壓CVD設(shè)備AMAX800V
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日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社常壓CVD設(shè)備AMAX800V具有極端連續(xù)型的高生產(chǎn)率常壓CVD設(shè)備AMAX800V8英寸 每小時(shí) 100 張的高吞吐量使用SiC托盤的重金屬污染對(duì)策和長(zhǎng)期穩(wěn)定的工藝提高可維護(hù)性特征通過改進(jìn)輸送機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了高吞吐量。SiH4，PH3，B2H6和O2從AMAX型分散頭分散后混合并表面反應(yīng)，優(yōu)化后在低溫和低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均
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日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社
常壓CVD設(shè)備AMAX800V
具有極端連續(xù)型的高生產(chǎn)率常壓CVD設(shè)備
AMAX800V
特征
通過改進(jìn)輸送機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了高吞吐量。
SiH4，PH3，B2H6和O2從AMAX型分散頭分散后混合并表面反應(yīng)，優(yōu)化后在低溫和低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。
使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
標(biāo)配自動(dòng)托盤更換功能，實(shí)現(xiàn)工人**，縮短維護(hù)時(shí)間。 此外，自動(dòng)抬起頭部底座的機(jī)構(gòu)便于清潔。
性能
| 均勻的薄膜厚度 | ≦±3.0% |
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| 支持的晶圓尺寸 | 8寸 |
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| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
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| 薄膜沉積溫度 | 350°C~450°C |
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| 生產(chǎn)力 | 100個(gè)/小時(shí) |
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主要規(guī)格
| 設(shè)備尺寸 | 1460毫米（闊） x 3830毫米（深） x 2250毫米（高） |
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| 加熱機(jī)構(gòu) | 電阻加熱 |
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| 裝載卸載 | 機(jī)器人 CtoC 運(yùn)輸 |
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| 分散頭（氣體噴嘴） | AMAX頭（標(biāo)準(zhǔn)2頭，3頭可用） |
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